SNU PRECISION
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Core Technology

SNU Precision的先进技术正在开启未来。

Business Area

  • Display Equipment
  • 三维表面形状量测机PSIS (Photo Spacer Inspection System)

    Introduction 测量RGB工艺中精确的段差高度
    Feature
    • 非接触式三维表面测量
    • 纳米级分辨率,高速测量
    Measurement item PS/Bump高度以及RGB段差、COA Via Hole深度以及段差、Overlay,等等
    Application 显示器TFT/CF/CELL工艺的高度以及CD测量,其他高精密三维表面形状测量所需领域
  • 二维表面CD量测机CDMS (Critical Dimension Measure System)

    Introduction 测量曝光模式工艺中各种线宽
    Feature
    • 测量非接触式线宽
    • 纳米级分辨率,高速测量
    • 结合3D Lens测量3D CD
    Measurement item Overlay、Hole、PR、Metal、ITO Slit CD,等等
    Application TFT Photo工艺、TFT PECVD工艺、其他高精密二维表面CD测量所需领域
  • 微小线宽&厚度复合量测机CDHT (Critical Dimension Measure System)

    Introduction 为优化Array/TFT工艺中涂层量、曝光量、蚀刻量等工艺条件,同时测量Half tone与CD
    Feature
    • 一次性同时测试CD/厚度/高度
    • 纳米级分辨率,高速测量
    Measurement item Half tone厚度、Overlay、Hole、PR、Metal、ITO Slit线宽,等等
    Application TFT Photo工艺、TFT PECVD工艺、Flexible TFT基板PI厚度测量
  • 异物检查机GPIS (Glass Particle Inspection System)

    Introduction 最小化LCD近距离曝光过程中所发生的Mask损伤的检查设备
    Feature
    • 安装于现有Conveyor线
    • 检测100um以上的异物
    Application 曝光工艺
  • 非接触式三维表面形状量测机SIS-1200 plus

    Introduction 非接触式三维表面测量原理研究与分析专用设备
    Feature
    • 非接触式三维表面测量
    • 纳米级分辨率
    Measurement item 3D段差、薄膜厚度、CD测量,等等
    Application 精密二维三维段差、厚度、线宽等测量所需研究与分析领域
  • 非接触式三维表面形状量测机SIS-2000

    Introduction 非接触式三维表面测量原理研究与分析专用设备
    Feature
    • 非接触式三维表面测量
    • 纳米级分辨率
    • Motorized 6 position indexing turret
    • Motorized X、Y、Z、Tip/Tilt
    Measurement item 3D段差、薄膜厚度、CD测量,等等
    Application 精密二维三维段差、厚度、线宽等测量所需研究与分析领域
  • OLED真空蒸镀机Helisys

    Introduction 作为真空方式有机物和无机物材料蒸镀系统,可制造高品质Mono、Full Color OLED Device
    Feature
    • 优秀的蒸镀均匀性
    • 精密的Align Accuracy
    • 从R&D到量产设备的设备Line-up
    Application OLED真空蒸镀工艺
  • OLED薄膜封装机TFE

    Introduction TFT整体工艺中,执行有机物蒸镀工艺的Encap蒸镀设备
    Feature
    • 优秀的蒸镀均匀性
    • 精密的Align Accuracy
    • 从R&D到量产设备的设备Line-up
    Application OLED Flexible Encapsulation工艺
  • Wafer真空蒸镀机

    Introduction 作为基于Si Wafer的真空蒸镀系统,为实现Metaverse时代的VR、AR、MR、XR,制造OLEDoS(OLED on Silion)的设备
    Feature
    • Real RGB OLEDoS专用蒸发源
    • Wafer专用高精密Align System
    • 200mm~300mm Si Wafer对应R/D以及量产设备Line-up
    Application OLEDoS真空蒸镀工艺